Modellierung von Laser-Direktschreibeverfahren
Studien-/ Diplom- /Bachelor- /Masterarbeit
Bearbeitungsstatus:
offen
Betreuer:
- Evanschitzky, Peter (FHG-IISB, Tel. 09131/761-259, E-Mail: peter.evanschitzky@iisb.fraunhofer.de
- Prof. Dr. rer. nat. Lothar Frey
Beschreibung
Diplom-, Bachelor-, Masterarbeit
geeignet für die Studienfächer: Advanced Optical Technologies, EEI, Nanotechnologie
Beschreibung:
Die Erzeugung von Bildern und Strukturen durch Scannen eines fokussierten Laserstrahls über eine photoempfindliche Schicht bietet vielfältige Anwendungen in der Mikro- und Nanotechnologie. Durch Kombination dieser Technik mit geeigneten optisch nichtlinearen Materialien lassen sich sogar dreidimensionale Mikro- und Nanostrukturen fertigen. Ziel der Arbeit ist die Modellierung und Anwendungssimulation für entsprechende Lithographieverfahren. Hierzu sind Algorithmen zu entwickeln, welche die Belichtung photosensitiver Materialien mit Hilfe eines fokussierten Laser-strahls beschreiben. Insbesondere sollen dabei nichtlineare Phänomene wie das Ausbleichen der photoempfindlichen Schicht oder Zweiphotonenabsorption berücksichtigt werden. Die Modellie-rung der weiteren Prozessierung der photoempfindlichen Schicht soll mit dem Lithographiesimulator Dr.LiTHO des Fraunhofer IISB erfolgen. Des Weiteren soll die Anwendung der beschriebenen Lithographietechnik zur Erzeugung einfacher Sub-Mikrostrukturen für Anwendungen in der Elektronik und Optik demonstriert werden.