Prof. Dr. rer. nat. Lothar Frey


Name:Prof. Dr. rer. nat. Lothar Frey
Postal address:Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente

Cauerstr. 6
91058 Erlangen
Room:1.122
Phone number:09131/85-28633
Fax number:09131/85-28698
E-mail:lothar.frey@leb.eei.uni-erlangen.de
Office hours:weekly on tuesday 9:00 - 10:00

1.122

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Courses / Lectures

Supervised theses

2013

2012
  • Analyse des Oxidationsverhaltens einer Keramik und deren Benetzbarkeit durch Silizium
  • Überwachung von Li-Ionen Akkumulatoren mittels Gassensoren
  • Aufbau und Inbetriebnahme eines Leistungsteils zur Untersuchung der Leistungsskalierbarkeit und des Betriebsverhaltens von Antriebsumrichtern mit verteiltem Zwischenkreiskondensator
  • Aufbau, Inbetriebnahme und Automatisierung eines Messplatzes zur Aufnahme von Impedanzspektroskopie-Kennlinien
  • Bestandsaufnahme und Evaluierung von Einsparungspotentialen am Beispiel eines Institutsgebäudes
  • Can controller implementation on FPGA
  • Dynamisches Abschaltverhalten von schnell schaltenden 600V pin-Dioden
  • Einfluss von Cäsium auf das Metall-Oxid-Halbleiter-System auf 4H-Siliciumcarbid
  • Einfluss von Phosphor- und Stickstoff auf das Metall-Oxid-Halbleiter-System auf 4H-Siliciumcarbid
  • Entwicklung einer schnellen Strommesswerterfassung und modellgestützter Signalaufbereitung in einem FPGA
  • Entwicklung eines Algorithmus für einen Testaufbau zur Fehlererkennung
  • Entwicklung eines DC/DC-Wandlers für ein Brennstoffzellensystem
  • Entwicklung eines effizienten Präprozessors zur Definition der Streckenvorgabe für Verbrauchs- und Fahrdynamiksimulationen
  • Entwicklung eines EMV- Filters zur Anbindung von elektrisch betriebenen Fahrzeugen an das Niederspannungs-Versorgungsnetz
  • Entwicklung eines Fahrzeug-Management-Systems für ein bateriebetriebenes Elektrofahrzeug
  • Entwicklung eines induktiv aufladbaren Retrofit Akkusystems für konventionelle Hörgeräte
  • Entwicklung eines Multi-Kanal-Protokolls für die Integration eines Android Systems in ein Elektrofahrzeug
  • Entwicklung und Aufbau einer Leistungsendstufe für einen bidirektionalen Traktions DC/DC Wandler
  • Entwicklung und Aufbau einer Leistungsendstufe mit direkt gekühlten Leistungsschaltern für einen Traktions-Wandler
  • Entwicklung und Inbetriebnahme eines Batterieüberwachungssystems
  • Entwurf und Entwicklung der Betriebssoftware einer Messplatine für verschiedene Mess- und Regelaufgaben im Hybrid-Fahrzeug
  • Entwurf und Implementierung einer Betriebssoftware für TriCore-basierte Steuergeräte im Antriebsstrang
  • Erstellung eines Simulationsmodells für Gleichspannungswandler
  • Evaluierung von Niedertemperatur-Oberflächenpassivierungsverfahren für die Messung von Ladungsträgerlebensdauern von Silicium für die Photovoltaik
  • Experimentelle Untersuchung des Einflusses unterschiedlicher Kristallorientierung und Dotierstoffkonzentrationen dünner Silicium-Scheiben auf das thermische Laserstrahl-Separieren
  • Großflächige Herstellung von Strukturen zur denierten Einkopplung und Auskopplung elektromagnetischer Strahlung
  • Herstellung und Untersuchung einer Tiegelbeschichtung für die gerichtete Erstarrung von Silizium
  • Konzeptionierung und Konstruktion eines Moduls mit Lithium-Ionen Zellen
  • Lasersintern nanopartikulärer ZnO Schichten für den Einsatz als aktive Schicht in Dünnfilmtransistoren
  • Modellierung von Interferenz- und Talbot-Lithographie
  • Modellierung, Simulation und Optimierung des Chemikalienflusses eines Anlagenprototypens zum nasschemischen Ätzen von Kupfer
  • Niedertemperaturkontkat auf n-dotiertem 4H-SiC
  • Signal conditioning electronics for distributed battery monitoring in electric and hybrid vehicles
  • Simulation gekoppelter Gleichspannungsnetze
  • Simulation und Regelung von Drehfeldmaschinen mit sinus- und blockförmiger Bestromung
  • Strukturelle und elektrische Charakterisierung von multikristallinen String Ribbon Silizium für die Photovoltaik
  • Surface Reconstruction from Makyoh Data for the Determination of Nanotopography on Semiconductor Wafers
  • Tiefenaufgelöste Messung von Ausbreitungswiderständen in p-dot. Galliumnitrid zur Kontrolle von Aktivierungsprozessen
  • Topologieuntersuchungen zur energieeffizienten Klimatisierung von Elektrofahrzeugen
  • Untersuchung der Einsatzgrenzen von SiC-Leistungsbauelementen im hartschaltenden Betrieb
  • Untersuchung der Kontaktbildung auf n- bzw. p-dotiertem 4H-SiC
  • Untersuchung und Aufbau von POL (Point Of Load) DC/DC-Wandlern zum Einsatz in der Konsumelektronik.
  • Untersuchung und Optimierung von Prozessen zur Herstellung von Siliciumdioxidschichten an einer Mikrowellen-Plasmaoxidationsanlage
  • Untersuchung von Maßnahmen zur Rissstabilisierung bei Anwendung des Thermischen Laser-Separierens für die Trennung kristalliner Silicium-Scheiben
  • Untersuchungen zu einer störsicheren Schnittstelle für Ansteuerschaltungen
  • Untersuchungen zu gedruckten Temperatursensoren
2011

2010

2009

2002

1999

1997

1996

1995

1994

1993

1992

Publications

2013

2012

2011

2010
  • »A Highly Integrated EMI Filter Using Polymer Bonded Soft Magnetics As Core Material«, Applied Power Electronics Conference (APEC), Palm Springs, USA (2010)
  • »Carbon junction implant: Effect on leakage currents and defect distribution«, ESSDERC 2010, Sevilla 5618224, 329-332 (2010)
  • »Comprehensive study of focused ion beam induced lateral damage in silicon by scanning probe microscopy techniques«, Journal of Vacuum Science and Technology B. Microelectronis and nanometer strucures 28, 595-607 (2010)
  • »Deep doping profiles in silicon created by MeV proton implantation: Influence of implantation parameters«, 18th Intl. Conference on Ion Implantation Technology, Kyoto, Japan (2010)
  • »Determination of the Dill parameters of thick positive resist for use in modeling applications«, 5th International Conference on Spectroscopic, Albany, NY, ? (2010)
  • »Dielectic Layers suitable for high voltage integrated trench capacitors«, 16th Workshop on Dielectrics in Microelectronics WoDiM 2010, Bratislava (2010)
  • »Dopant profiles in silicon created by MeV proton implantation: Influence of annealing parameters«, E-MRS 2010 Spring Meeting, Strassbourg, Frankreich (2010)
  • »Effective Work function tuning in high-k dielectric metal-oxide-semiconductor stacks by fluorine and lanthanide doping«, Journal of Applied Physics, 053506 (2010)
  • »Effects of Oxygen and Forming Gas Annealing on ZnO TFTs«, MRS Fall Meeting 2010, Boston, - (2010)
  • »Effizienzoptimierung integrierter elektrischer Antriebssysteme für Hybrid- und Elektrofahrzeuge«, Elektro Mobil Ausstellung 2010, Aschaffenburg, ? (2010)
  • »Electrical scanning probe microscopy techniques for the detailed characterization of high-k dielectric layers«, ECST Transactions 28, 139-156 (2010)
  • »Evaluation of NbN thin films grown by MOCVD and plasma-ehhanced ALD for gate electrode application in high-k/SiO2 gate stacks«, Semiconductor Science And Technology 25, 045009 (2010)
  • »Evolution of Shear Strength and Microstructure of Die Bonding Technologies for High Temperature«, 12th Electronics Packaging Technology Conference, Singapur, 660-667 (2010)
  • »Evolution of Solder Joint Strength and Microstructure of High Temperature Lead Free Solders for SiC applications During Thermal Aging«, 12th electronics Packaging technology conference, Singapore, 660-667 (2010)
  • »Experiments and simulation of the diffusion and activation of the n-type dopants P, As, and Sb implanted into germanium«, EMRSEMRS Spring-Meeting 2010, Strasbourg (2010)
  • »Fabrication of metakkic SPM Tipps by combining UV nanoimprint lithography and focused ion beam processing«, Microelectronic Engineering 87, 1123-1126 (2010)
  • »Full Wafer Micolens, Repplication by UV Imprint Lithography«, Microelectronic Engineering 87, 1074-1076 (2010)
  • »Future challenges in CMOS process modelling«, Thin Solid Film 518, 2478-2484 (2010)
  • »Germanium substrate loss during thermal processing«, EMRSEMRS Spring Meeting 2010, Strasbourg (2010)
  • »Highly sensitive wavefront sensor for visual inspection of bare and patterned silicon wafers«, Optical Micro- and Nanometrology III, Brussels, Belgium (2010)
  • »Honeycomb Voids due to Ion Implantation in Germanium«, Thin Solid Films 518, 2323-2325 (2010)
  • »Impact of forming gas annealing on ZnO-TFTs«, 10th IEEE International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology, Shanghai, 1548-1550 (2010)
  • »Influence of annealing temperature and measurement ambient on TFTs based on gas phase synthesized ZnO nanoparticles«, Microelectronic Engineering 87, 2312-2316 (2010)
  • »Influence of FIB patterning strategies on the shape of 3D structures: Comparison of experiments with simulations«, IEEE Electron Device Letters 31, 464-466 (2010)
  • »Integrierbare Bauelemente zur Erhöhung der Betriebssicherheit elektronischer Systemkomponenten im Automobil«, AmE 2010 Automotive meets Electronics, Dortmund, 72-77 (2010)
  • »Modeling of the effectiv work funktion instability in metal/high-k dielectric stacks«, Journal of Applied Physics, 124514 (2010)
  • »NMOS Logic Circuits Using 4H-SiC MOSFETs for High Temperature Applications«, 645-648, 1143-1146 (2010)
  • »Optical inspection of flat reflective surfaces by a wave front sensor«, Reflection, Scattering, and Diffraction from Surfaces II, San Diego, California, USA 7792, 77920Q (2010)
  • »Polymer bonded soft magnetics for EMI filter applications.«, Automotive meets Electronics, Dortmund, ? (2010)
  • »Polymer bonded soft magnetics for EMI filter applications.«, Automotive meets Electronics, Dortmund, ? (2010)
  • »Properties of SiO2 and Si3N4 as Gate Dielectrica for Printed ZnO Transistors«, 16th Workshop on Dielectric Materials, Bratislava (2010)
  • »Reduced on restistance in LDMOS devices by integrating trench gates into planar technology«, IEEE Electron Device Letters 31, 464-466 (2010)
  • »The Impact of Helium Co-Implantation on Hydrogen Induced Donor Profiles in Float Zone Silicon«, ECS Trans. 33, 51-62 (2010),
    externer Link: OPUShttp://dx.doi.org/10.1149/1.3485682
  • »The Impact of Helium Co-Implantation on Hydrogen Induced Donor Profiles in FZ Si«, 218th ECS Meeting, Las Vegas, NV, USA (2010),
    externer Link: OPUShttp://link.aip.org/link/?MAECES/1002/1557/1
  • »Trench gate integration into planar technology for reduced on-resistance in LDMOS devices«, International Symposium on Power Semiconductors ans Devices ans ICs, Hiroshima, Japan, 181-184 (2010)
  • »Tuning of Charge Carrier Density of ZnO Nanoparticle Films by Oxygen Plasma Treatment«, 6th World Congress on Particle Technology, Nürnberg (2010)
  • »Tuning of Charge Carrier Density of ZnO Nanoparticle Films by Oxygen Plasma Treatment«, 6th World Congress on Particle Technology, Nürnberg, - (2010)
2009

2008

2007

2006

2005

2004

2003

2002

2001

2000

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