Prof. Dr.-Ing. Heiner Ryssel


Name:Prof. Dr.-Ing. Heiner Ryssel
ehem. Lehrstuhlinhaber (im Ruhestand)
Postanschrift:Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente

Cauerstr. 6
91058 Erlangen
Telefonnummer:09131/761-109
Fax:09131/85-28698
E-Mail:heiner.ryssel@leb.eei.uni-erlangen.de

Lehrveranstaltungen

Wissenschaftliche Schwerpunkte

  • CMOS-Technologie
  • Halbleiterfertigungsgeräte
  • Ionenimplantation
  • elektronische Bauelemente
  • Sensorik

Betreute Arbeiten

2012

2011

2010

2009

2008
  • Analyse und Optimierung beim Umspritzen eines Spulenkörpers mit wärmeleitfähig modifizierten Thermoplasten
  • Aufbau eines automatisierten Kalorimetermessplatzes zur hochgenauen Bestimmung von Verlustleistungen in leistungselektronischen Baugruppen
  • Auswirkung von Ionenimplantation auf ITO- und ZnO-Schichten aus Nanopartikel-Dispersionen
  • Bestimmung der Gateoxidzuverlässigkeit mittels eines neuartigen Photostrom-Messverfahrens
  • Charakterisierung von dünnen TaN Schichten
  • Der Einfluß der Dispergierung und Stabilisierung auf die charakteristischen Eigenschaften eines auf ZnO Nanopartikeln basierenden elektronischen Bauelementes
  • Entwicklung einer aktiven Zellsymmetrierung für Li-Ionen-Akkusysteme für Hybridfahrzeuge
  • Entwicklung eines Basisprozesses zur plasmaunterstützten Nitridierung dünner Gateoxidschichten an einem Mini-Batch Vertikalofen
  • Entwicklung eines Batterie-Management-Systems für Lithium-Ionen Akkumulatoren in Matlab-Simulink
  • Entwicklung eines Mikrocontroller-basierten universellen LAN-Interface für Messgeräte
  • Entwicklung und Implementierung der Regelung des Hybridantriebsstranges eines Kraftfahrzeugs
  • Entwicklung, Simulation und Integration eines induktiven Energieübertragungssystems für heizbare Handschuhe in einen Druckknopf
  • In-situ-Messung der Erosionen an Sputtertargets
  • Inbetriebnahme und Automatisierung eines Hallmessplatzes
  • Konzeptstudie für die Umrüstung eines konventionellen Serienautos in ein Hybridfahrzeug
  • Mechatronische Integration eines Doppelumrichters für den elektrischen Antrieb einer Fahrzeugachse
  • Studie über Möglichkeiten und Grenzen technischen Kopierschutzes
  • Studie zu den notwendigen Voraussetzungen und Funktionalitäten bei der Umrüstung eines Serienfahrzeugs in ein Hybridfahrzeug
  • Thermische Simulationen einer mechatronischen Baugruppe aus wärmeleitfähigem Kunststoff
  • Untersuchung und Bewertung der Einflüsse einer erhöhten Temperaturbelastung von Schaltungsträgern durch fehlerhafte leistungselektronische Bauelemente
  • Untersuchung zur Erhöhung der Zuverlässigkeit von Sicherungsbrücken
2007

2006

2005

2004

2003

2002

2001

1999

1998

1997

1996

1995

1994

1993

1991

1990

1988

1987

Publikationen

2013

2012

2011

2010

2009

2008

2007

2006

2005

2004

2003

2002

2001

2000
  • »"Monte Carlo Simulation and Modeling of Ion Implantation Induced Contamination Profiles«, XIIIth International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2000), Alpbach, - (2000)
  • »A Computationally Efficient Method for Three-Dimensional Simulation of Ion Implantation«, IEICE TRANSACTION on Electronics E83-C, 1259-1266 (2000)
  • »Adhesion and proliferation of keratinocytes on ion beam modified polyethylene«, Journal of materials science: Materials in medicine, 655-660 (2000)
  • »Aspects of Barium Contamination in High Dielectric Dynamic Random Access Memories«, J. Electrochem. Soc 147, 4297 (2000)
  • »Contamination Control for Ion Implantation«, IIT School, Edgewater, 564-601 (2000)
  • »Contamination Control for Ion Implantation«, XIIIth International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2000), Alpbach, Österreich (2000)
  • »Defects and Gallium-Contamination During Focused Ion Beam Micro Machining«, XIIIth International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2000), Alpbach, Österreich (2000)
  • »Diffusion (IMEC Short Course)«, Silicon Processing for ULSI Circuit Fabrication, Leuven, Belgien (2000)
  • »Electrical Reliability Aspects of Through the Gate Implanted MOS-Structures with Thin Oxides«, 11th Workshop on Dielectrics in Microelectronics (WoDiM), München (2000)
  • »Enhanced Depth-Resolution Analysis with Medium Energy Ion scattering (MEIS) for Shallow Junction Profiling«, XIIIth International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2000), Alpbach, Österreich (2000)
  • »Field emitter array fabricated using focused ion and electron beam induced reaction«, Journal of Vacuum Science and Technology B 2, 976-979 (2000)
  • »Gate Oxide Damage Due to Through the Gate Implantation in MOS-Structures with Ultrathin and Standard Oxides«, XIIIth International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2000), Alpbach, 103-106 (2000)
  • »Investigation of Molybdenum Contamination in 11B+ and 31P+ Implants«, XIIIth International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2000), Alpbach, Österreich (2000)
  • »Ion Implantation«, Silicon Processing for ULSI Circuit Fabrication (IMEC short course), Leuven, Belgien (2000)
  • »Modeling the pH response of silicon nitride ISFET devices«, Sensors and Actuators B: Chemical 68, 307-312 (2000)
  • »Modellierung der Diffusion von Aluminium in Silicium«, Berichtskolloquium DFG-Schwerpunktprogramm "Halbleiterbauelemente hoher Leistung", Karlsruhe, 8 (2000)
  • »Modelling of Intrinsic Aluminum Diffusion for Future Power Devices«, 30th European Solid State Device Research Conference, Cork, Irland, 176-179 (2000)
  • »Monte Carlo Simulation and Modeling of Ion Implantation Induced Contamination Profiles«, Ion Implantation Technology 2000, Alpbach (2000)
  • »Reliability and Degradation of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors on 4H- and 6H-Silicon Carbide«, Materials Science Forum, 338-342 (2000)
  • »Safety Considerations for Ion Implanters«, IIT School, Edgewater (2000)
  • »Safety Considerations for Ion Implanters«, XIIIth International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2000), Alpbach, Österreich (2000)
1999

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