Prozessmesstechnik
- Schichtdickenmessung
- Linienbreitenmessung
- Schichtwiderstandsmessung
Schichtdickenmessung
Ellipsometrie
Optisches Messgerät zur Bestimmung der Schichtdicke transparenter dielektrischer und halbleitender Dünnschichten über die Änderung des Polarisationszustands elektromagnetischer Wellen
Interferometer
Optisches Messgerät zur Bestimmung der Schichtdicke transparenter dielektrischer und halbleitender Dünnschichten über die Interferenzeigenschaften reflektierter Lichtstrahlen
Stufenhöhenmessung
Mechanisches Messgerät zur Bestimmung von Schichtdicken und Stufenhöhen an Kante
Rasterelektronenmikroskopie
Rasterelektronenmikroskop mit Feldemitter zur Untersuchung von Schichten in Halbleiterbauelementen bei bis zu 70000-facher Vergrößerung
Linienbreitenmessung
Lichtmikroskopie
Messgerät zur optischen Messung der Linienbreite
Rasterelektronenmikroskopie
Rasterelektronenmikroskop mit Feldemitter zur Untersuchung von Schichten in Halbleiterbauelementen bei bis zu 70000-facher Vergrößerung
Stufenhöhenmessung
Mechanisches Messgerät zur Bestimmung von Schichtdicken und Stufenhöhen an Kante
Schichtwiderstandsmessung
Vierspitzenmessgerät
Messgerät zur Ermittlung des Schichtwiderstands in leitfähigen und halbleitenden Schichten mittels Vierspitzenmessung
